| 美***反應式離子刻蝕系統及沉積系統 |
| Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統制造商，Trion為化合物半導體、MEMS(微機電系統)、光電器件以及其他半導體市場提供多種設備。我們的產品在業內以系統占地面積*小、成本低而著稱，且設備及工藝的可靠性和穩定性久經考驗。從整套的批量生產用設備，到簡單的實驗室研發用系統，盡在Trion。 Trion提供升***及回收方案給現有客戶。 |
美***Trion Orion III PECVD 薄膜沉積系統
可以在緊湊的平臺上生產高品質的薄膜。獨特的反應器設計可以在在極低的功率生產具有優異臺階覆蓋的低應力薄膜。該系統可以滿足實驗室和中試生產環境中的所有安全，設施和工藝標準要求。
Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統具有許多標準的需求功能，而且是這樣***個如此合理價格，這就是為什么許多世界各地的用戶已經作出了Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統的選擇。
特征：
沉積薄膜：氧化物、氮化物、氧氮化物，非晶硅。
工藝氣體：＜20%硅烷、氨氣、正硅酸乙酯、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮
應用：
MEMS, 固態照明，失效分析，研發，試驗線.
滬公網安備31011502016460號
